A-Train The Seven
...'cause for once, I didn't hate myself.
Samsung Electronics đang thực hiện một thay đổi lớn trong chính sách sản xuất bán dẫn: thuê ngoài photomask. Đây là linh kiện quan trọng dùng để in mạch lên wafer trong quy trình sản xuất chip. Lần đầu tiên sau nhiều thập kỷ tự sản xuất hoàn toàn để tránh rò rỉ công nghệ, hãng đưa ra thay đổi quan trọng. Đầu tháng 9/2025, công ty đã đặt hàng cho PKL (công ty con của Photronics – Mỹ) sản xuất photomask thấp cấp (i-line và KrF) dành cho chip nhớ, đồng thời đang đánh giá Tekscend Photomask (công ty con của Toppan Holdings – Nhật Bản) để đặt hàng sớm. Quyết định này không chỉ giúp Samsung tối ưu hóa chi phí và tập trung vào công nghệ cao cấp, mà còn phản ánh thách thức chung của ngành bán dẫn, nơi nhu cầu photomask tăng vọt do chip ngày càng phức tạp.
Photomask là "khuôn in" quang học, dùng để chuyển mạch điện tử từ thiết kế lên wafer silicon bằng cách chiếu ánh sáng qua mẫu mạch. Chúng được phân loại theo bước sóng ánh sáng: i-line (365 nm) cho mạch đơn giản, KrF (248 nm) cho độ phân giải trung bình, ArF (193 nm) cho mạch nâng cao và EUV (13,5 nm) cho công nghệ tiên tiến nhất như chip 3 nm trở xuống.
Trong sản xuất chip, 1 tấm wafer có thể cần hàng chục photomask. DRAM trước đây chỉ dùng 30-40 tấm, nay vượt 60 tấm do kỹ thuật multi-patterning để tạo mạch nhỏ hơn, càng ngày mẫu mạch càng phức tạp. Theo báo cáo từ TrendForce, sự phức tạp này làm tăng nhu cầu photomask toàn cầu, thị trường dự kiến đạt 6,08 tỷ USD năm 2025, tăng trưởng 4,53% hàng năm đến 2030. Samsung có sản lượng chip nhớ khổng lồ là 1 khách hàng lớn, việc thuê ngoài photomask thấp cấp giúp họ duy trì lợi thế cạnh tranh mà không ảnh hưởng đến bí mật công nghệ cao.
Sau hàng thập kỷ tự sản xuất để kiểm soát rủi ro rò rỉ, Samsung giờ thuê ngoài photomask i-line và KrF do thiết bị cũ kỹ, một số loại không còn sản xuất, chi phí thay thế mới quá cao. Các nguồn từ The Elec nhấn mạnh rằng photomask thấp cấp có rủi ro công nghệ thấp nên Samsung coi đây là bước đi an toàn. Mặc dù tự sản xuất vẫn rẻ hơn thuê ngoài nhưng việc chuyển hướng nguồn lực sang ArF và EUV là ưu tiên chiến lược.
Ban đầu, Samsung dự định thuê ngoài cả ArF nhưng vì một số nhà cung cấp sản xuất mask cho chip 10 nm nằm ngoài Hàn Quốc, vi phạm luật bảo vệ công nghệ tiên tiến của chính phủ. Để tránh thủ tục phê duyệt phức tạp, họ giữ nguyên tự sản xuất ArF. Quyết định này giúp Samsung cân bằng giữa tiết kiệm chi phí (thiết bị cũ tốn kém bảo trì) và an ninh quốc gia, đặc biệt khi Trung Quốc nổi lên với các nhà sản xuất photomask giá rẻ nhưng lo ngại bảo mật cao.
Photomask là "khuôn in" quang học, dùng để chuyển mạch điện tử từ thiết kế lên wafer silicon bằng cách chiếu ánh sáng qua mẫu mạch. Chúng được phân loại theo bước sóng ánh sáng: i-line (365 nm) cho mạch đơn giản, KrF (248 nm) cho độ phân giải trung bình, ArF (193 nm) cho mạch nâng cao và EUV (13,5 nm) cho công nghệ tiên tiến nhất như chip 3 nm trở xuống.
Trong sản xuất chip, 1 tấm wafer có thể cần hàng chục photomask. DRAM trước đây chỉ dùng 30-40 tấm, nay vượt 60 tấm do kỹ thuật multi-patterning để tạo mạch nhỏ hơn, càng ngày mẫu mạch càng phức tạp. Theo báo cáo từ TrendForce, sự phức tạp này làm tăng nhu cầu photomask toàn cầu, thị trường dự kiến đạt 6,08 tỷ USD năm 2025, tăng trưởng 4,53% hàng năm đến 2030. Samsung có sản lượng chip nhớ khổng lồ là 1 khách hàng lớn, việc thuê ngoài photomask thấp cấp giúp họ duy trì lợi thế cạnh tranh mà không ảnh hưởng đến bí mật công nghệ cao.
Sau hàng thập kỷ tự sản xuất để kiểm soát rủi ro rò rỉ, Samsung giờ thuê ngoài photomask i-line và KrF do thiết bị cũ kỹ, một số loại không còn sản xuất, chi phí thay thế mới quá cao. Các nguồn từ The Elec nhấn mạnh rằng photomask thấp cấp có rủi ro công nghệ thấp nên Samsung coi đây là bước đi an toàn. Mặc dù tự sản xuất vẫn rẻ hơn thuê ngoài nhưng việc chuyển hướng nguồn lực sang ArF và EUV là ưu tiên chiến lược.
Ban đầu, Samsung dự định thuê ngoài cả ArF nhưng vì một số nhà cung cấp sản xuất mask cho chip 10 nm nằm ngoài Hàn Quốc, vi phạm luật bảo vệ công nghệ tiên tiến của chính phủ. Để tránh thủ tục phê duyệt phức tạp, họ giữ nguyên tự sản xuất ArF. Quyết định này giúp Samsung cân bằng giữa tiết kiệm chi phí (thiết bị cũ tốn kém bảo trì) và an ninh quốc gia, đặc biệt khi Trung Quốc nổi lên với các nhà sản xuất photomask giá rẻ nhưng lo ngại bảo mật cao.