Trong ngành chip đang bị ASML thống trị, Nga bất ngờ tung ra lộ trình EUV lithography "made in Russia" tại bước sóng 11.2nm – khác hẳn chuẩn 13.5nm của Hà Lan
Kế hoạch bắt đầu năm 2026-2028 với máy lithography 40nm, dùng hệ thống quang học hai gương, độ chính xác overlay 10nm, trường tiếp xúc...