TSMC đã tái khẳng định chiến lược không sử dụng công cụ quang khắc High-NA EUV cho các công nghệ tiên tiến sắp tới gồm A16 (1.6nm) và A14 (1.4nm). Thay vào đó, TSMC sẽ tiếp tục tối ưu hóa các công cụ Low-NA EUV hiện tại để đạt hiệu quả mong muốn về hiệu suất, công suất và mật độ transistor. Phát...