công nghệ quang khắc

Các nhà nghiên cứu Trung Quốc đã đạt được một bước tiến lớn trong công nghệ quang khắc (lithography) và chất cản quang (photoresist), có thể cải thiện đáng kể hiệu suất sản xuất của các thiết bị bán dẫn. Bằng cách sử dụng phương pháp hiển vi điện tử lạnh 3D (cryo-electron tomography – cryo-ET)...

Nếu không có máy in thạch bản tiên tiến, việc sản xuất chip công nghệ cao là điều bất khả thi, ảnh hưởng trực tiếp đến an ninh quốc gia và phát triển công nghiệp. Nga gần đây đặt câu hỏi: Trong cuộc đua phát triển máy in thạch bản EUV, ai sẽ chiếm ưu thế? Họ tuyên bố sở hữu công nghệ cốt lõi và...

Trước các lệnh cấm mới từ Mỹ nhắm vào công cụ thiết kế vi mạch (EDA), Viện Hàn lâm Khoa học Trung Quốc đã giới thiệu hệ thống QiMeng. Dù là một bước tiến chiến lược, các vi xử lý đầu tiên do AI này thiết kế mới chỉ có năng lực tương đương chip Intel 486 từ 36 năm trước. QiMeng: Lời đáp trả...